Tiếp theoHướng dẫn tiếp theo
Xu hướng đại diện và lấy mẫu trong bộ dữ liệu
kỹ thuật
HƯỚNG DẪN KỸ THUẬT
Độ lệch tiếp xúc là khoảng cách xuất hiện khi một mô hình chỉ được đào tạo dựa trên các tiền tố hoàn hảo, khi suy luận, phải dựa trên các kết quả đầu ra không hoàn hảo của chính nó.
Nghe hướng dẫn nàyAI thuật lại · ~2 min
Scheduled sampling is a curriculum that gradually closes that gap.
Các mô hình được đào tạo với sự ép buộc của giáo viên chỉ xem các mã thông báo thực tế dưới dạng bối cảnh, nhưng tại thời điểm thế hệ, họ phản hồi lại dự đoán của chính mình. Khi một lỗi ban đầu khiến mô hình rơi vào trạng thái mà nó chưa từng gặp phải trong quá trình đào tạo, các lỗi có thể xảy ra như quả cầu tuyết, một chế độ lỗi được gọi là sai lệch phơi sáng. Lấy mẫu theo lịch trình, được Bengio và các đồng nghiệp giới thiệu vào năm 2015, giải quyết vấn đề này bằng cách tung đồng xu ở mỗi bước giải mã trong quá trình đào tạo: với một số xác suất, nó cung cấp mã thông báo thực (giáo viên ép buộc) và mặt khác, nó cung cấp dự đoán được lấy mẫu của chính mô hình. Xác suất sử dụng sự thật cơ bản bắt đầu gần một và giảm dần trong quá trình đào tạo thông qua một lịch trình (tuyến tính, hàm mũ hoặc nghịch đảo sigmoid), do đó, mô hình dần dần tiếp xúc với kết quả đầu ra của chính nó và học cách phục hồi sau những sai lầm của nó.
Huấn luyện mô hình phụ đề hình ảnh bằng cách lấy mẫu theo lịch trình để mô hình này học cách tiếp tục một cách duyên dáng sau một từ được dự đoán không hoàn hảo
Giảm xác suất ép buộc của giáo viên bằng lịch trình sigmoid nghịch đảo trong hệ thống dịch máy thần kinh
Chẩn đoán một chatbot đi vào các vòng lặp không mạch lạc như một triệu chứng thiên vị tiếp xúc do sự ép buộc thuần túy của giáo viên
So sánh điểm BLEU của một người tóm tắt được đào tạo với sự ép buộc đầy đủ của giáo viên với một người được đào tạo lấy mẫu theo lịch trình
Đối với các mô hình ngôn ngữ Transformer lớn, tác động thực tế của sai lệch tiếp xúc đang được tranh luận, vì dữ liệu khổng lồ và quy mô làm giảm nó và các phương pháp như RLHF trực tiếp định hình lại hành vi tạo ra. Tuy nhiên, việc lấy mẫu theo lịch trình và các hệ quả của nó vẫn phù hợp với các mô hình nhỏ hơn, việc tạo có cấu trúc và các nhiệm vụ có nhu cầu nghiêm ngặt về độ chính xác. Công việc trong tương lai kết hợp việc tiếp xúc với chương trình giảng dạy, các mục tiêu theo trình tự theo phong cách củng cố và đào tạo với rủi ro tối thiểu để điều chỉnh cách đào tạo các mô hình với cách chúng thực sự giải mã.
Bản tin miễn phí
Ba câu chuyện AI đã được xác minh vào mỗi buổi sáng các ngày trong tuần, được viết bằng tiếng Anh đơn giản. Miễn phí mãi mãi, không có quảng cáo.
Một email mỗi ngày trong tuần. Hủy đăng ký trong một cú nhấp chuột. Chúng tôi không bao giờ bán hoặc chia sẻ địa chỉ của bạn.
Tự kiểm tra
Phản hồi tức thì về mọi câu trả lời và chứng chỉ có thể chia sẻ với ID có thể xác minh sau khi bạn vượt qua khóa học.
Hỗ trợ giáo dục AI miễn phí. AI Understanding là tổ chức phi lợi nhuận 501(c)(3) — không bao giờ có quảng cáo, không có tường phí. Hãy quyên góp
Độ lệch tiếp xúc là khoảng cách xuất hiện khi một mô hình chỉ được đào tạo dựa trên các tiền tố hoàn hảo, khi suy luận, phải dựa trên các kết quả đầu ra không hoàn hảo của chính nó. Lấy mẫu theo lịch trình là một chương trình giảng dạy dần dần thu hẹp khoảng cách đó.
Lấy mẫu theo lịch trình kết hợp ngẫu nhiên các mã thông báo thực tế và mã thông báo do mô hình tạo ra làm đầu vào bộ giải mã, được kiểm soát bởi xác suất phân rã.
Lịch trình bắt đầu gần như đầy đủ giáo viên bị ép buộc và phân rã nên mô hình ngày càng tiếp xúc với những dự đoán của chính nó khi nó được cải thiện.
Lấy mẫu theo lịch trình đã được Samy Bengio và các đồng nghiệp đề xuất vào năm 2015 để dự đoán trình tự với các mạng lặp lại.
Công việc ban đầu đề xuất các lịch trình phân rã tuyến tính, hàm mũ và nghịch đảo sigmoid để giảm xác suất lấy mẫu sự thật cơ bản.
Scheduled sampling sometimes feeds the model’s own sampled prediction instead of the gold previous token.
Tiếp tục học hỏi
Đã chọn thêm hướng dẫn cho chủ đề này
Tiếp theoHướng dẫn tiếp theo
Xu hướng đại diện và lấy mẫu trong bộ dữ liệu
kỹ thuật